材料名稱 二氧化硅
分子式 SiO2
常規純度 99.99%
透光范圍(μm) 0.2~2.5
蒸發溫度(℃) 1800~2200
密度(g/cm3) 2.2
折射率 1.45/500nm
蒸發源 E
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       SiO2是低折射率鍍膜材料。我們采用特殊工藝對SiO2顆粒經過高溫處理后,氧化硅的含氣量、材料應力等性能得到很大改善,鍍膜可操作性好,膜層表面光潔度高,牢固度好,薄膜不容易龜裂。

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